一、產(chǎn)品簡介

二、技術(shù)特點(diǎn)

1. 高強(qiáng)度與高韌性
• 日陶氧化鋯球的抗壓強(qiáng)度達(dá)到1200 MPa，硬度為1250 HV10，能夠在高強(qiáng)度研磨過程中保持形狀和尺寸的穩(wěn)定性。
2. 耐磨性與低污染
• 由于其高純度（ZrO?+HfO?含量達(dá)94.7%）和低磨耗特性，日陶氧化鋯球在研磨過程中幾乎不會(huì)引入雜質(zhì)，適合高精度材料的加工。
3. 尺寸范圍廣
• 提供從0.03mm到25mm的多種尺寸，適用于不同粒度要求的研磨和分散。
4. 化學(xué)穩(wěn)定性
• 在常溫下具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性，不導(dǎo)磁，電絕緣，可在水性系統(tǒng)中使用。
5. 高球形度與光滑表面
• 球形度高，表面光滑，粒度分布集中，有助于提高研磨效率和分散效果。

三、制備工藝

1. 模具壓制法
• 通過干壓成形或等靜壓成型，可以制備高性能的研磨介質(zhì)球。
2. “行星式"滾動(dòng)法
• 將造好粒的氧化鋯陶瓷粉體放入滾動(dòng)筒內(nèi)，滴加少量去離子水，顆粒隨滾動(dòng)筒的轉(zhuǎn)動(dòng)而在筒壁上滾動(dòng)，最終形成小球。
3. 外膠凝法
• 漿料滴出的小球在常溫下先經(jīng)NH?預(yù)固化，再在NH?OH中固化，小球尺寸可通過震動(dòng)噴嘴調(diào)節(jié)。
4. 內(nèi)膠凝法
• 六次甲基四胺預(yù)先混入冷的原料液中，通過受熱在液體小球的各個(gè)部位同時(shí)分解釋放出氨和甲醛，形成凝膠。

四、操作使用

1. 研磨前準(zhǔn)備
• 根據(jù)研磨材料的性質(zhì)和粒度要求，選擇合適尺寸的日陶氧化鋯球。確保研磨設(shè)備（如砂磨機(jī)、球磨機(jī)等）清潔且無雜質(zhì)。
2. 裝填介質(zhì)
• 將日陶氧化鋯球裝填到研磨設(shè)備中。裝填量應(yīng)根據(jù)設(shè)備的容量和研磨要求進(jìn)行調(diào)整，通常裝填量占研磨罐體積的40%-60%。
3. 研磨過程
• 調(diào)整研磨設(shè)備的轉(zhuǎn)速和時(shí)間。日陶氧化鋯球的高密度和高強(qiáng)度使其能夠在較低的轉(zhuǎn)速下實(shí)現(xiàn)高效的研磨效果。
4. 研磨后處理
• 研磨完成后，及時(shí)清理研磨設(shè)備，防止殘留物料對(duì)后續(xù)研磨過程造成污染。日陶氧化鋯球的低磨耗特性使其在多次使用后仍能保持良好的性能。

五、應(yīng)用領(lǐng)域

1. 電子材料
• 用于研磨和分散電介質(zhì)、壓電材料、磁性材料、電池電極材料等。
2. 化工與涂料
• 廣泛應(yīng)用于顏料、油漆、油墨等材料的超細(xì)研磨和分散。
3. 精細(xì)陶瓷
• 用于制備高性能陶瓷原料，確保材料的高純度和均勻性。
4. 醫(yī)藥與食品
• 適用于藥品、粉末食品、農(nóng)藥等的研磨和分散。
5. 其他領(lǐng)域
• 還可用于CMP研磨劑、拋光細(xì)粉、熱處理撒粉等。

六、優(yōu)勢(shì)與市場前景

1. 高效率與低成本
• 日陶氧化鋯球的高耐磨性和低磨耗特性顯著降低了生產(chǎn)中的廢棄物，減少了更換頻率，從而降低了使用成本。
2. 環(huán)保友好
• 由于其低磨耗和高純度，日陶氧化鋯球?qū)Νh(huán)境的影響較小。
3. 廣泛的應(yīng)用前景
• 隨著科技的不斷進(jìn)步，日陶氧化鋯球在電子材料、新能源、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域的應(yīng)用將更加廣泛。

七、總結(jié)