超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

產(chǎn)品名稱(chēng): 超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

產(chǎn)品型號(hào): SC-701MC

產(chǎn)品特點(diǎn): 超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜
特點(diǎn)
小型化設(shè)計(jì)：作為直流濺射類(lèi)設(shè)備中的小型機(jī)，SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸，便于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜 的詳細(xì)介紹

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

特點(diǎn)

小型化設(shè)計(jì)：作為直流濺射類(lèi)設(shè)備中的小型機(jī)，SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸，便于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。
全自動(dòng)操作：從排氣到涂層，再到進(jìn)入大氣，整個(gè)過(guò)程都是全自動(dòng)的，減少了人工操作的復(fù)雜性和誤差。
磁控管陰極：采用磁控管陰極，有助于減輕離子損傷，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜。
膜厚控制：配備預(yù)設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器，可以精確控制膜厚。
易于操作：專(zhuān)用的試料臺(tái)和靶材臺(tái)，可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離。
適用范圍廣：適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等。

技術(shù)參數(shù)

表格

復(fù)制

參數(shù)	詳情
陰極	φ2英寸DC磁控管/2極對(duì)向電極
靶材	Au靶材附屬
膜厚設(shè)定方式	預(yù)設(shè)方式/帶膜厚監(jiān)視器的數(shù)字顯示
氣體導(dǎo)入機(jī)制	針閥
真空泵	直聯(lián)式回轉(zhuǎn)真空泵：20l/min（帶自動(dòng)逆流防止閥）
排氣操作	自動(dòng)
真空腔尺寸	內(nèi)徑φ120mm×D120mm（SUS制）
樣品交換方法	前門(mén)開(kāi)閉式
尺寸（寬/深/高）	主體：225/420/320mm；RP：300/160/200mm
重量	主體：15kg；RP：9kg

應(yīng)用

各種電子元器件的電極膜制備。
用于制造反射薄膜等的應(yīng)用。

SC-701MC以其小型化、自動(dòng)化和高質(zhì)量的薄膜制備能力，成為實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。

特點(diǎn)

小型化設(shè)計(jì)：作為直流濺射類(lèi)設(shè)備中的小型機(jī)，SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸，便于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用
。
全自動(dòng)操作：從排氣到涂層，再到進(jìn)入大氣，整個(gè)過(guò)程都是全自動(dòng)的，減少了人工操作的復(fù)雜性和誤差
。
磁控管陰極：采用磁控管陰極，有助于減輕離子損傷，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜
。
膜厚控制：配備預(yù)設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器，可以精確控制膜厚。
易于操作：專(zhuān)用的試料臺(tái)和靶材臺(tái)，可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離
。
適用范圍廣：適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等
。

技術(shù)參數(shù)

表格

復(fù)制

參數(shù)	詳情
陰極	φ2英寸DC磁控管/2極對(duì)向電極
靶材	Au靶材附屬
膜厚設(shè)定方式	預(yù)設(shè)方式/帶膜厚監(jiān)視器的數(shù)字顯示
氣體導(dǎo)入機(jī)制	針閥
真空泵	直聯(lián)式回轉(zhuǎn)真空泵：20l/min（帶自動(dòng)逆流防止閥）
排氣操作	自動(dòng)
真空腔尺寸	內(nèi)徑φ120mm×D120mm（SUS制）
樣品交換方法	前門(mén)開(kāi)閉式
尺寸（寬/深/高）	主體：225/420/320mm；RP：300/160/200mm
重量	主體：15kg；RP：9kg